GB／T 21114-2019标准规范下载简介：

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GB／T 21114-2019 耐火材料X射线荧光光谱化学分*熔铸玻璃片法

8.1.1XRF化学分*熔铸玻璃片法的一个优点是可选择多种熔剂。对一个给定的校准程序，应始终使 用同样的熔剂。任何一种熔剂和稀释比应满足8.1.2～8.1.9的条件。 注：附录C给出了已成功用于耐火材料分*的熔剂.预烧熔剂的优点是水分含量较低。 8.1.2样品应被熔剂全部熔解，且在浇铸过程中不损失。 8.1.3玻璃片应是透明的.并目无失透现象出现

或通过测定研磨纯材料或已知组分的材料增加的杂质量来确认； h） 制备的玻璃片，选定的测量表面无瑕疵； ) 玻璃片的上表面作为测量面时，它应是凸面或平面，并且在任何直径方向都是对称的 ) 已知成分的标准玻璃片应采用与样品相同的方法制备； k） 如铸型模变形，用合适的模具重新整形；若用玻璃片底面来分*，铸型模的上表面也应平整和 无损伤； 玻璃片相对于测量的X射线波长应是无限厚的，在耐火材料分*中使用的谱线参数，通常能 达到无限厚。 注1：建议熔融双份玻璃片。如果测定附录A中有关材料的所有氧化物，将获得成分总量，可用来验证分*结果， 注2：尽管使用氧化剂.在1200℃仍会有某些元素挥发，如硫

9.1.4手动玻璃片铸造

熔融过程包括在马弗炉（1200士50）℃下加热熔样Ⅲ、铸型模和保温装置（如果使用）5min。然后 使用以下方法之一浇铸。 a）炉外铸造：试料在（1200士50)℃熔融5min后，从炉（5.5）内取出铸型模保温板（5.3），将铸型 模保温板放在水平面上，立即放置铸型模在保温板上，取下熔样皿的盖子，立即将熔融物注入 铸型模（5.2)中。 b) 炉内铸造：试料在（1200士50)℃熔融5min后，去掉熔样皿（5.1）盖子，倒人炉（5.5）内的铸型 模（5.2)中，确保尽可能多的熔融物倒人铸型模中，从炉内取出铸型模放在一个水平面上。 ) 二合一熔铸模具：经5min（1200土50）℃熔融后，从炉中取出熔样Ⅲ皿SN/T 3137-2012 出口食品中脱氧雪腐镰刀菌烯醇、3-乙酰脱氧雪腐镰刀菌烯醇、15-乙酰脱氧雪腐镰刀菌烯醇及其代谢物的测定 液相色谱-质谱 质谱法，如果没有使用脱模剂，熔 体可以上升到容器的侧面。因此，小心操作熔样皿确保熔体充满熔样血的模具部分，然后将熔 样皿放在石墨砖上冷却。 d) 用喷灯加热铸型模：试料按规定的温度和时间熔融后，将熔融物倒人预加热的铸型模中，然后 关掉喷灯。让熔融物固化，并按9.1.4.2中使用喷气（5.4)或水冷却金属板来加速冷却过程。 注1：当使用玻璃片上表面进行分*时，在浇铸过程中产生的玻璃片表面波纹，会导致错误的分*结果，为了避免波 纹，宜使熔融物沿着铸型模的边缘注入。为了保持上表面曲率一致，尽可能把熔融物全部倒入铸型模中，以保 证玻璃片一致性

9.1.4.2玻璃片冷却方法

不使用空气喷嘴时，将铸型模放在水平的表面上冷却。使用空气喷嘴时，将铸型模放在喷嘴上方， 比时熔融物可以是熔融状态或固体状态。若是熔融状态且采用上表面分*，应确保空气喷嘴上方的铸 型模支架是水平的，使空气直达铸型模底部中心。当玻璃片固化和脱离铸型模后，关掉空气喷嘴。 注：为了使玻璃片脱模，可轻敲铸型模

9.1.5自动制备玻璃片

除按9.1.4制备玻璃片外，也可采用自动熔样机制备，且应符合9.1.2和12.1的规定。

在不当的温度和湿度条件 测量面应清洗，若经过长时期贮存还应抛光， 注：已报道的污染源如下： a) 来源于光谱仪真空油和大气中的硫： 如果实验室接近海洋，来源于大气中的钠和氯； c) 香烟烟气中的钾： d）贮存玻璃片塑料袋表面的污染

在不当的温度 则量面应清洗，若经过长时期贮存还应抛光 注：已报道的污染源如下： a) 来源于光谱仪真空油和大气中的硫： b) 如果实验室接近海洋，来源于大气中的钠和氯 c) 香烟烟气中的钾： d）监存玻璃片塑料袋表面的污染

熔融高含量氧化铬或氧化锆的样品时会产生向题，铬氧化物难以在熔剂中熔解，同样氧化错也有这 个问题，相比铬氧化物容易.但冷却时会引起**.甚至在完全熔解后也会产生此现象。在建立熔融方 法之前，针对实验室涉及的最高含量的氧化物材料进行熔剂、样品熔剂比、温度、熔融时间试验。通常对 于铬矿、英石、氧化需要不同的熔融程序。 虽然采用9.2的贮存条件，含有高含量氧化锆的玻璃片表面比其他玻璃片易吸湿，这使轻元素的背 景增强.此现象可通过在220℃下干燥12h来消除

10.1校准用标准样品

用纯试剂或系列标准样品（SeMs）制备的圾璃片米建立计算方程和元系目十抗效应的校止，系列 标准样品不同于有证标准样品（CRMs），后者用来验证用纯试剂校准的有效性。CRMs和SeRMs分别 列在附录D和附录E中，若有证标准样品（CRMs）系列满足10.2.2和10.4.1的要求，可作为系列标准 品。

10.2试剂和系列标准样品（SeRMs）

10.2.1试剂的纯度和制备

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10.2.2系列标准样品制备（SeRMs）

系列标准样品可代替合成标准用作为校准，系列标准样 ） SeRM应符合GB/T15000.7的要求； b） SeRM应有较均等的含量梯度； c) 氧化物含量变化应互相独立； d) 在一个系列中最少应有10个标准样品； e) 系列标准样品应通过均匀性检查； f) 证书中应提供实验室间和实验室内偏差的统计值； g) 化学分*值应用另一种技术验证（如ICP）

10.31校准标准样品

为简单起见，建议使用二元校准标准样品。 校准要准确明白，不模棱两可，以便于发现称量差错并加以更正。 注：如多元氧化物合成标准样品的多重线性回归满足所有标准规定.则可使用，而无经验者可能会遇到包括称量误 差和无法分解谱线重叠等严重的困难

10.3.2使用二元和三元标准样品的校准方法

10.3.2.1一般规则

采用纯氧化物或碳酸盐的简单混合物，按制备样品玻璃片的方法制备校准玻璃片，这些标准样品的 成分被特定地和独立地设计成校准以下三部分的每一部分： a）描述校准曲线形状的系数； b）谱线重叠校正； c）质量吸收校正系数（如α系数）。 本方法的优点是每一系数彼此独立且容易识别称量差错。虽然开始它可能比多元素校准需要更多 的标准样品数量。但使用的标准样品仅包含1个～2个或至多3个成分，并且校准一旦建立，很容易扩 大校准范围和加人另外的元素，而无需重新再定义和再测量已建立的校准系数、重叠校正和质量吸收 校正

10.3.2.2基体的定义

第3章所列出的材料类型可分为三种基体： a）单一主成分，如氧化锆； b）二主成分，如铝硅质； c）三或多种主成分，如铬矿。 对第一种情况，以100%的主要氧化物为基体，并对此进行校正，这使得校准范围很容易扩展，所有 则量成分的校准可采用主量氧化物和次量氧化物二元混合物的方案获得，其总量为100%。 对其他两种情况，选一种成分为主成分并按10.3.2.4制作二元混合物标准。通常选含量高的氧化 勿为主成分（如铝硅质选SiO）。与第一种情况的唯一不同是以第2主成分的100%作为第1主成分的 点，并且这两种主要氧化物的校准由二者的二元混合物制得。当进行谱线重叠校正时，以主量氧化物 内100%进行校正（而对第一主量氧化物则按第2主量氧化物为100%进行校正）。质量吸收系数校正， 通常设计为次量成分和主成分的二元混合物进行相互校正（见10.3.2.9、10.3.2.10、10.3.2.11）。

10.3.2.3漂移校正

有两种方法补偿光谱仪漂移： a）监控标准样品（用计数率补偿）； 当使用本方法时应测量每个元素的背景。 监控标准样品应是含有所有校准元素的稳定玻璃片，各元素含量应使其计数率的统计误差小于或 于校准的统计误差。监控标准样品应在建立校准前测量，并且在每一次样品分*前均应进行测量。 贮存建立校准时的首次计数率和本次的计数率，并且得出光谱仪的漂移校正因子。 当漂移校正因子大于1.3或小于0.7时（最大漂移土30%），应进行再校准[第2种方法，见b)]。 b）漂移校正标准样品（再校准标准样品）

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为了补偿背景和灵敏度漂移，需一套漂移校正标准样品。在这套漂移校正标准样品中，对每个元素 均应包括一个零含量和一个高含量标准样品，高含量点应大于待测元素最高含量的0.6倍。以100% 主要氧化物标准样品作为其他所有成分的零点（以第2主成分为100%作为主成分的零点）。在谱线重 叠的某些情况下可尝试另外选择（如100%SiO，不能作为SrLα的零点，100%TiO，不能作为BaLα的零 点）。同样，两种有谱线干扰的元素不能组合在同一漂移校正标准样品中。 漂移校正应在可能进行多天的整个校准过程中测量 注：通常，漂移校正标准样品不作为校准标准样品使用。 漂移校正标准样品在每次样品分*中均使用到。大多数仪器软件，将自动地进行二点再校准。如 果仪器不附带这些软件，用户可将11.3中列出的一些适当的算法，编入自己的软件中。

10.3.2.4校准标准样品数

主量氧化物和校准氧化物的二元混合物.除了零点应有下列标准样品数量（以下含量均为质量分 数）： <2%，含量间隔近似相等的标准样品至少2个： <10%，含量间隔近似相等的标准样品至少3个： <20%，含量间隔近似相等的标准样品至少4个； >20%.至少从5%含量开始以10%的整倍数增加（10%.20%.30%等）直至高于校准范围.最 高为100%。 注：可使用多元氧化物合成标准样品或系列标准样品

10.3.2.5校正系数的计

强度（或其对漂移校正的比）对浓度作图，如果任何一点离开了曲线，重新测量标准玻璃片。如果仍 然偏离曲线，重新制备玻璃片，大多数的校准为直线，因此线性方程用作表达浓度与强度关系，用来计算 未知浓度。其他校准可能是平滑的曲线，可以用三种方法之一表达： a）二次方程式； b）应用本身氧化物质量吸收校正的线性方程（这接近二次方程式并且一些制造商的软件是表达 二次方程关系的唯一方法）； c）应用待测主量氧化物的质量吸收校正的线性方程。 注：小于10个标准样品，建议不采用这些方程。 对稍稍弯曲的曲线（如铝硅酸盐中的铝）可以采用以上的任何一种方法，对明显弯曲的曲线应采用 方法c).如果线性关系仍然不好，应用a）、b)组合模式

10.3.2.6谱线重叠校正标准样品

在所有情况下使用10.3.2.4中的标准样品。这些标准样品完全满足单一主氧化物基体分*的需 要。当有两种主要氧化物存在时，需增加一套标准样品来校正次量成分对次主量氧化物谱线重叠的影 响，这些标准样品由次量和次主量氧化物总量为100%的二元混合物组成。该次量氧化物含量应等于 或大于要校准的次量氧化物的最大值。 注：二元标准也可用来测定质量吸收校正系数（见10.3.2.8）

10.3.2.7谱线重叠校正

首先把一套二元标准样品（见10.3.2.4）按未知试样在光谱仪上测量、计算，确定校正系数。记录 昆合物中用来计算谱线重叠校正的一个元素对另一元素的表观质量分数，因有一系列这样的标准 可通过比较来发现错误结果。当计算平均谱线重叠系数时，干扰元素含量大的标准样品应给予较

的权重。对这些校准范围，谱线十扰可用下述方法表达：1%（质量分数）十扰氧化物相当手待测元系 X%（质量分数），X是谱线重叠系数 这些校正在分*中与质量吸收系数校正一起选代。 同样的方法可应用于背景校正。如果ZrO，范围超过20%（质量分数）.应考虑Zr二次线对NaKc 和MgKα线的影响。 对有些严重一级谱线重叠，可用同样的*体/探测器组合测量干扰线，采用非选代强度校正可能更 好，这由各实验室自行决定，但应在报告中注明采用这种校正及理由

10.3.2.8质量吸收校正标准样品

在10.3.2.4中给出的校准标准样品用于计算次量成分对主成分的吸收校止系数，用10.3.2.6来计 算次量成分对第2主成分的质量吸收系数或者第2主成分对次量成分的质量吸收系数。主成分之间或 对次量成分适用的质量吸收校正系数通常由仪器的回归软件进行计算。 测定次量成分之间的质量吸收校正系数需要三元混合物标准，2种最大次量成分含量与主量氧化 物之和为100%。如果没有其他数据可以用来验证称量差错，应配制双份标准样品。即使制作一套 8个次量成分的双份标准样品也是很耗时的工作，因此允许使用另一种方法，对于相同的基体和X光 管，可用先前计算的经验质量吸收校正系数或理论质量吸收校正系数，后者由仪器制造商提供或用其他 商用软件或自备软件计算。计算理论质量吸收校正系数的模式列于附录F。如采用相同阳极的X光管 和相同的稀释比分*相同类型的材料（第3章），也能使用先前在其他仪器上计算的系数。理论和经验 质量吸收校正系数满足式（2）的条件时，能代替从特别制作标准样品中得来的系数： a) aC,≤0.025 ·(2) 式中： αi——干扰氧化物对待测氧化物的质量吸收系数； C，一干扰氧化物的最大含量，以质量分数计，数值以百分数表示。 b）质量吸收系数不是由于分*线靠近干扰元素吸收边而产生的。 如果不能满足上述条件a)或b)，那么应使用合成标准样品来确定经验质量吸收校正系数。 注1：按上式所示，如果使用的质量吸收校正系数的误差是20%.待测成分的误差小于0.5%。 注2.出射角和激发电压可能有偏差时.建议测定校正系数

10.3.2.9质量吸收校正系数的数学模型

.....+.+..................2

V=V.(l+EauXC,) ..(3) 式中： αij 干扰氧化物对待测氧化物的质量吸收系数： 干扰氧化物的浓度，以质量分数计，数值以百分数表示： V. 根据未校正标准值得到经谱线重叠和背景校正后的待测氧化物的表观强度、强度比或 浓度； V. 从标准样品中待测氧化物真实浓度校准曲线得到的真实强度或强度比（如采用浓度，是校 正后的真实浓度）。 对XRF化学分*熔铸玻璃片法通常不需要更加复杂的校正项

10.3.2.10质量吸收校正系数的计算

将测定质量吸收校正系数的标准样品设计成每次校正一个成分，因此，式（3)的单一干扰情况可 为式（4）：

在整个计算过程中应使用相同的V值：如强度、比值或浓度。 重复测量经验质量吸收系数[见式(2)]的结果偏差应满足△αi×C,<0.005，一次测定结果，△α；× ，<0.005[见式（2)]，△α，由经验和理论α校正计算，如果这些条件不能满足，有关的玻璃片应重测.如 果还不能满足，应制备新的玻璃片来测定

0.3.2.11确定理论质量吸收校正系数的准则

为了避免需要用天量标准样品计算经验质量吸收校止系数，可使用自已的、商用的或光谱仪制造商 的软件来计算合适的理论质量吸收校正系数，所用的软件应满足下列规定： a）所使用的模型不仅包括对荧光辐射的质量吸收效应，而且包括激发辐射（作为单波长处理）； b) 模型包括X射线对样品的入射角和从样品发射X射线荧光的出射角： c) 稀释比按常数计： d）计算理论α系数的基体对应于校准中使用的基体（见10.3.2.2）。 用10.3.2.5给出产生各种校准系数方法。 许多现代仪器，可能无法确定是否满足上述要求。如果是这样的话，该系数应始终按10.3.2.10段 末的描述检查。 如果该软件不生成α校正，但应用基本参数，则校准的准确性应使用一定范围的有证的标准样品进 行检验。如果没有CRMs，那么应采用已知浓度的内部控制样品或合成标准样品 如果主基体氧化物对待测氧化物无需校正质量吸收系数，基体被认为是待测氧化物和主基体氧化 物的二元混合物，通常按待测氧化物校准的最大量与主基体氧化物之和为100%混合，加人干扰氧化物 的作用是代替主基体氧化物。 另一方面，如果要校正主基体氧化物对待测氧化物的影响，则基体是100%的待测氧化物，加入干 扰氧化物的作用是代替待测氧化物

10.3.3多元素校准

0.3.3.1在10.3.1和10.3.2.1中描述的方法，是以其他元素的影响最小化进行的，元素间十扰（质量吸 收校正）用二元和三元玻璃片来计算。因此，在无任何其他干扰元素的情况下测定一个元素对另一元素 为影响。另一种选择是多元素校准法，计算出许多元素对特定的元素同时影响。 0.3.3.2用高纯试剂制备（见10.2.1)一系列含有各待测元素的合成校准玻璃片即系列标准样品玻璃 片（见10.2.2）。各玻璃片中每个待测元素的含量不同，覆盖每个元素的分析范围，能够估算谱线重叠和 元素间影响效应。 计算出各种校正因子涉及复杂的计算，因此需要像M.V.R（多变量回归）这样的计算机程序。 很明显所需校准玻璃片数目取决于分析程序的大小。大概数目N可通过下式计算： N=n2+1 n是由回归计算测定的因子总数，包括校准曲线、谱线及背景校正和质量吸收校正。 0.3.3.3为了使系统工作，应对可能的干扰知识有较深的了解，且仔细设计玻璃片成分。由于玻璃片 改目随分析程序数量增加，差错的机会也将增加。如称重、玻璃片制备等差错可能难以识别，将会产生 错误的干扰因子。识别差错的方法是制备双份校准玻璃片，以便比较每组的强度，这显然加大了校准的 工作量，如果分析程序非常大，应对M.V.R程序进行检查，确保能胜任该项工作

尽管本标准对测量范围未做严格规定，但对材料中重要氧化物的典型范围做了规定，见附录A。

第3章中材料类型依据种类来分，该分类并不出于校准目的。例如：镁铬质、铬镁质和铬矿可以是 一个校准中连续系列的部分。另一个例子是硅酸镁，除氧化镁外，能和铝硅酸盐耐火材料共同使用相同 的所有校准和元素间校正。在下面给出其他可能的组合，但未全部列出。 如果采用二氧化硅对氧化铝进行质量吸收校正，反之亦然，并且零点加大权重，则应建立从0%到 100%（质量分数）的这两种氧化物的单个校准，校准的低点和高点是准确的，尽管应用这些质量吸收校 正，校准可能仍然不是线性的。在这种情况下，允许将校准表示为二次方程，但从不采用更高级次方程， 扩展校准的两端应始终用适当的合成标准样品检查， 锆英石、AZS和铝镁尖晶右可以是铝硅酸盐范围的扩展。 锆英石可以是氧化锆材质的一部分。 白云石和石灰石可以组合成一个系列。 镁铝尖晶石可以是镁质的扩展

10.4使用SeRMs校准

10.4.1校准标准样品

应主要用附录E中的SeRMs制备校准玻璃片.以获得覆盖待测样品含量范围的校准标准样品 如果这些标准样品未覆盖被测样品的含量范围，允许使用SeRMs的混合物或加入纯试剂。当SeRMs 用来建立校准时，应用合成标准样品进行验证（见附录G）。 当用SeRMs建立校准时，合成标准样品的理论值（以试剂量计算的质量分数）与在校准曲线上得到 的结果的差值，应与有证标准样品（CRMs）的误差要求范围一样（见附录G)

10.4.2校准曲线和方程

10.4.2.1校准曲线

测量标准玻璃片的X射线荧光强度以建立校准曲线，用最小二乘法求得强度与浓度的二次方程 饮方程见式（5）：

C =al +bl +

式中： C; 成分i的质量分数； I, 成分i的X射线荧光强度； a.b.c 系数（一次方程时，a0）

10.4.2.2校准方程

如果10.4.2.1中校准曲线不能获得足够的准确度，校准方程[见式（6)应通过附录H定 得到

C,=(al’+bl,+c)(1+2a,C,)+2l,C,

C,一一共存元素i的质量分数； 1，一一共存元素重叠校正系数。 注：也可采用其他校准方程。 检验校准曲线准确度用式（7），如果此值超过要求的分析允许误差应使用共存成分校正系数的 方程：

式中： 成分i的准确度； W C 成分i从校准曲线上求得的质量分数； N 做校准曲线用的玻璃片数目； P 系数的数目（一次方程为2，二次方程为3）。 在许多情况下，5；和校准曲线由X射线荧光光谱仪的计算机同时算出，当要明显提高准确度时，即 便未校正共成成分时的分析偏差小于分析允许误差，仍然要采用共存校正系数的校准方程。 注：用SeRM和纯试剂进行重叠校正是一 样的（见10.3.2.6和10,3,2.7

谱线重叠校正最好采用二元标准样品，可以是单位质量分数干扰物对待测氧化物（质量分数）（见 10.3.2.7）进行校正，在某些情况下可用强度校正。 Zr对HfLa有干扰，因此用细准直器测定HfLβ或HfMa。Zr对NaKα，Ca对MgKα和Cr对 MnKα的干扰也应引起注意

通常采用11.1给出的方式进行校正，对同时式光谱仪其如此。对顺序式光谱仪，可选择1或 个背景峰进行测量。在用Cr靶测量Na和Mg时，或者当氧化物成分含量小于0.05%（质量分数)时 如果需要，建议测量非峰值背景 另一种方法是采用多个设定的小范围校准，使在该小范围内背景变化不大。 连续背景的完整分析和精确测量是按照与样品制备的物理差异和原级激发谱变化无关进行的。 在X射线荧光光谱中，背景有三种基本的来源： a）来自X射线光管的辐射： 1）具有同样的能量：它不能被消除，因为与它相应的光子与测定的峰具有同样能量。 注：除非用原级谱线滤光片，否则建议不用接近X射线光管原级线的分析线（如用Cr靶测定MnKα）。 2）它的高次线：相应于所测量的光子能量2倍、3倍、4倍的能量的光子（在50kV，更高级不 被激发）。 b）来自样品的荧光辐射： 1）来自样品中另外元素的2级、3级、4级谱线； 2) 由另一元素发出的同样能量辐射，它与测量峰类型不同（这是干扰无法解决的情况，需要 选择新的测量峰）。 c）来自晶体的杂散荧光辐射。 这取决于样品和晶体类型

在校准和进行每批样品分析时要监测校准的高低两端，应使用一套比值（即再校准）标准样品校 移(见 10.3.2.3)。强度按式(8)计算

式中： 低比值标准玻璃片相同元素的原

N.低比值标准玻璃片相同元素的原计数：

相关元素标准或样品玻璃片的计数： N"——低比值标准玻璃片相同元素的现计数； N，—高比值标准玻璃片相同元素的原计数； N"—高比值标准玻璃片相同元素的现计数。 如果令N=0和N=1.则式（8）简化为式（9）

注：漂移校正应用在背景和灵缴度上是合适的

通常漂移校正后强度（或比值）进行质量吸收校正，然后计算浓度，并进行浓度谱线重叠校正，下面 的步骤b）～d)通常需要送代。然而，如果校准接近直线，可直接对浓度进行质量吸收校正，仅步骤c)和 H)需要选代。可用强度对强度或浓度对浓度作为谱线重叠校正，当测量的谱线不是产生干扰的谱线 时，不能使用强度对强度的校正方法。 a) 漂移校正； b) 比值或计数率转换为浓度； c) 质量吸收校正； 谱线重叠校正； e) 碳化钨灼烧减量校正（附录B）。 软件应能用二点法进行漂移校正（见11.3）。如果测量非峰值背景，因为把非峰值背景作为低点那 么漂移校正仅测量校准高位点，采用比值法校正，即将计数值校回到建立校准方程时从漂移校正标准样 品得到的计数

11.5.1软件应具有对校准数据进行回归的能力，包括下列特点： a）数学加权零点的能力； b） 从回归中删除校准项（即其他成分）的能力。 11.5.2应能贮存至少一个常规的分析程序（约10个氧化物）所有的谱线重叠和校正系数，对于10个元 素的分析程序每个元素多至约20个校正项，如果预期的程序越大，则需要的校正矩阵越大。 软件能手工输入质量吸收系数、谱线重叠校正系数、校准和再校准（比值）数据并编辑。它应能输入 理论质量吸收校正系数和脱机计算系数。 建立初始校准后：新的要求可能需要校准的扩展。在这种情况下，该软件应能接受手动或其他方式 对校准系数的修改。 11.5.3非XRF化学分析获得的数据常需要参与分析计算。不管是使用人工还是自动换样器的光谱 仪，应能引人下列项目： 氧化锂的质量分数； b) 氧化硼的质量分数； c) F的质量分数； 灼烧减量或增量； e) 在普通材料中少见的其他元素或氧化物， 11.5.4 氧化锂、氧化硼和氟的质量吸收校正系数和背景校正及在普通材料中少见而不用XRF化学分 析测定的元素或氧化物的数据与由光谱仪获得的浓度数据一起包括在选代循环中。 并自对耀化钨污热作为购盛减量进行

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校正。 11.5.6 质量吸收校正应是浓度对强度校正。若校准是近似的直线，可采用浓度对浓度校正。 11.5.7 通常谱线重叠校正是浓度对浓度校正，但也可选择强度对强度和浓度对强度校正。 11.5.8元素间干扰校正选代应允许常数值收敛[浓度小于0.001%（质量分数）]或预定选代次数（一册 为5次）或两者都用

应在下列情况下进行熔融试验： a）首先证明熔融方法满足标准要求； b）变更样品制备方法，如手动改自动和改变熔融方法时； c) 使用新的熔剂和改变稀释比。 实验室应对每一种熔剂及稀释比的使用做样品制备的统计试验，如：用质量比为5：1的LizB,O 溶融白云石和10：1的Li2B,O3熔融镁砂，应分别进行统计试验。重复性试验应使用有证标准样品 CRM)以相同的条件最少制备6个玻璃片，见附录I。用定时计数法在XRF光谱仪上测量这些玻璃 片，使计数统计误差到不显著的水平，附录1给出了熔融误差和计数误差说明（后者比前者小10倍），计 算每个氧化物的标准偏差，如果有标准偏差超过附录G的给定值，则应修改熔融方法，否则认为该氧化 物的测定不符合本标准条款的规定。 注：铁、镍、钻有还原问题，可与熔样Ⅲ合金化，采用更强的氧化熔融条件可使标准偏差降低到可接受水平，有效的 方法是用无水硝酸锂作氧化剂

仅器测试按12.3～12.7的规定进行： a）首次建立仪器/校准方法或样品制备方法时； b）仪器主要部件变化后，如更换X射线光管或计数器窗口； C）每年一次的定期测试

12.3样品座的最大允许差

本检查应在光谱仪安装之后，或在用此方法之前及怀疑至少有一个样品座有间题时进行。 注：如果放置样品的参照面是仪器的一部分，并且与样品座无关，不需要进行该项测试。 在每个用于分析的样品座中测定一个100%纯硅石标准样品10次，计算每个样品座的二氧化硅的 强度/浓度平均结果，所有的样品座重复这个过程，去除有明显问题的样品座的数据。然后计算总平均 值，如果样品座的结果与总平均值的差比附录G中规定的范围大，该样品座不能使用，除非采用校正 措施。

12.4样品测量位置的一致性

在每个测量位置对一个100%纯硅石玻璃片的每个元素测量10次，每个测量位置的结果应满足下 列限定： SiO2：平均值±0.2%（质量分数）； 微量成分：平均值士检测限。 如果任何结果超出限定，应采取校正措施。 注：本检查仅对有多于1个测量位置的仪器安装或该部分修理后进行

对批量样品.测量时间大于1h，为了监控仪器的中期漂移，对整夜或长期运行，应以合适的CRMs 安下列方法之一测量： a）每隔1h测量一次CRM玻璃片，测量结果和原始结果之差应符合附录G的规定。如测量 CRM玻璃片的结果不符合G.1c)的规定，其后所有已测量的样品应重测。 b） 在仪器安装的最初6个月内、维修或维护后（取时间短者），应按a）的规定每隔1h测量一次 CRM玻璃片，结果应符合附录G的规定。通过测量最大批量样品时每隔1h测量一次CRM 玻璃片达到监控仪器漂移的目的，最大批量测量的总时间不应超过24h。以后，可以仅在分析 开始和结束时测量CRM,结果应符合G.1c)的规定，否则那些样品应重测。 注：在开始和结束时测量监控玻璃片是显示仪器是否漂移的一种方法。

12.6顺序式光谱仪系统

个通常使用制造商提供的软件和制造商 进行校准。如果不是这种情况，那么手动 建立各自晶体和探测器的6和20关系，这就要求用来调整测角仪的谱线使用的标准样品无干扰元素。 对于每个晶体/探测器组合（包括多层晶体） ，通常至少要用2个标准样品进行检查 注：在安装之后，用本标准之前和每年的维 充维修之后宜进行这项测试，对无机械联动莫尔条纹原理的 和20系统，也推存测角系统应在争 频次教小时）复零调整

死时间是因为计数器被先前的脉冲占有而不能响应的时间， 应用下列的方法之一克服死时间： a）应使用探测器的线性响应范围。 注：对大多数次量成分的响应是线性的。 b）应用死时间电子校正器来产生线性响应。 c）对每个探测器计算死时间.并且对计数进行数学校正

应遵照仪器使用说明书进行其他项目的测试

用在XRF光谱仪的流气正比计数器中。 为了防止正比计数器灵敏度的漂移，应控制钢瓶和连接管线的温度。管线应尽可能短，尽可能放在 存放光谱仪的温控室内。在安全规则允许的范围内，气瓶应放在XRF光谱仪房间内。若不可能，气瓶 应放在温控柜内（土2℃）。否则应放在一个恒温的房间内。由于同样的原因，新钢瓶应在使用前约2h 放到恒温间内恒温。 由于钢瓶中气消耗完时，气体成分变化，剩余气体低于其容量10%时，应停止使用

13用有证标准样品测量的准确度

13.1合成校准的有效性

应用CRM制成的玻璃片与每批样品一起测量，获得的结果应符合附录G的规定，合适的CRMs

也列在附录G中（见10.4.1和附录G）。 如果CRM的结果超差，应重测，如果结果仍不能接受，应重新制备CRM玻璃片，并且测量，如结果 乃然超差，应采用必要的补救措施和再校准

13.2SeRM校准的有效性

出现下列情况下重新制备CRM或合成标准玻璃片： a) 更换了一批熔剂： b) 改变制备的方法； c） 玻璃片超过6个月，除非能证明玻璃片在更长的时间内稳定且无污染

中 D一检测限； S——被测氧化物灵敏度，单位质量分数的净计数； R一一被测氧化物在特定材料的100%基体氧化物标准中的计数。 对S和R，应采用相同的计数时间测定。 注：对铝硅质，除了SiO，本身100%SiO2对所有氧化物来说作为零基体，100%Al,OFZ/T 50002-2013 化学纤维异形度试验方法，对SiO来说是含量为零的基 体。对单一主氧化物如氧化镁、氧化锆是不需要检测限， 本定义在考虑漂移校正误差之后，在第三项上加了2因子

试验报告应包括下列信息； a) 使用标准，即GB/T21114—2019； b) 实验室名称和地址； c) 委托人名称和地址； 证书或报告的唯一标识（如系列号）； e) 证书或报告的每页上有一个唯一的页标识形式（如证书或报告的系列号加上具有唯一的页码， “几页中第几页”)； f) 样品接受日期、测试日期： 报告或证书发出日期； h) 结果和依据； i) 证书或报告内容负责人或授权人的清晰签字： j) 清晰的测试产品标识（包括产品制造商的名字、型号或种类、序号，作为唯一标识）； 对本标准的任何偏离； D 涉及测试结果有效性的采样、样品制备的细节

m）对测试结果校准的不确定度的评定（只有 与技术规范或极限值的一致性，应委托人要求这些信息才在测试报告和证书中出现）； n）委托人要求的可能涉及有关测试结果的采信或适用性及其他有效信息

当涉及有关测试结果的采信或应用，不确定度影响 与技术规范或极限值的一致性，应委托人要求这些信息才在测试报告和证书中出现）； n）委托人要求的可能涉及有关测试结果的采信或适用性及其他有效信息

附录A （规范性附录） 校准范围和检测限 表A.1～表A.8列出了相关材料中最重要氧化物的校准范围和检测限， 注：除非特别说明，范围的下限是检测限，

GB/T 16716.6-2012 包装与包装废弃物 第6部分：能量回收利用GB/T211142019

表A.1高铝质铝硅质和其他硅酸盐